警視庁公安部は、産業技術総合研究所で
研究員として勤務していた中国人技術者を、
フッ素化合物に関するデータを、不正に
中國本国に機密漏洩したとして逮捕した。
日本の機密情報を漏洩したとして、スパイ
事件として被疑者逮捕まで至った例は稀。
かって、2014年には、東芝の提携企業の
韓国人技術者を、韓国の半導体企業[SK
ハイニックス]に機密情報を流したと訴えた。
だが、僅かな和解金で解決し、その後両社は
本格的な提携艦居なっている有様。
模倣からパクリ、更には詐取まで、韓国では
相変わらず産業スパイはお盛んなようだ。
韓国警察庁国家捜査本部は、6月に過去
3ヶ月間に発生した、産業技術流出など経済
安保危害犯罪捜査で計35件を摘発したと発表。
35件のうち8件は、韓国の技術の海外持出し。
韓国の産業スパイは、基本懲役刑が１年～
3年6ヶ月程度と軽すぎるとの評価。
米国では、産業スパイに対して重刑で臨んで
おり、被害額によって量刑が決まるため、
最大33年9ヵ月の懲役刑もあるとされる。
さて、情報駄々洩れ、スパイ天国の日本は？
中国西安市にあるサムスン電子半導体工場で
ＳＫハイニックスで副社長を務めるなど、
国内半導体製造分野で権威者と呼ばれた
常務が、サムスン電子の半導体工場をその
まま複製して、極秘に中国国内に建設する
目的で、企業秘密であるサムスン電子の
半導体工場と工程配置図、設計図面などを
不正に取得して流出させたとして起訴された。
中国半導体製造会社の職員５人と設計図面を
渡したサムスン電子の協力会社の職員１人の
計６人も不正競争防止法違反容疑などで起訴。
半導体ウェハー研磨工程図など会社の機密
資料を閲覧し、個人の携帯電話で写真を
撮影する手口などを通じて機密資料を入手し、
複製した新設工場用に流出させていた。
工場丸ごとを盗み取るとは、でっかい話。
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